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可单件/批量清洗,满足不同场景需求

槽式兆声波——纳米级洁净,零损伤守护

根据客户应用,提供非标定制服务

产品资料

水幕式兆声波

水幕式兆声波

1 个型号

水幕式兆声波清洗系统,将兆声波换能器集成于宽幅水幕喷头内部;清洗药液 / 超纯水经过耦合层,形成一层连续、均匀的薄水幕帘,兆声波能量直接耦合进流动水幕之中,带声学能量的完整水幕覆盖晶圆基材表面完成清洗处理

产品型号 频率 最大功率 振板尺寸 功率调整 供电电压 频率范围 详情
HKD-MegaShower-1M600W 1MHz 600Watt 750mm*70mm*220mm 0~600Watt - 1MHz

聚焦高价值领域,精准匹配需求

槽式兆声波清洗机,开启超精密清洗新时代

哈科迪

纳米级微颗粒清除

1-5MHz兆声波振动+ 800W 大功率输出,可去除纳米级微颗粒,轻松清除高深径比微孔杂质,满足芯片制造中“零缺陷”清洗标准

哈科迪

适配不同行业需求

为半导体硅片、医疗器件、光学器件、显示屏等微电子行业精密清洗领域提供更具高效、实用、灵活的超洁净精密制造解决方案

哈科迪

智能自适应控制

实现晶圆化学抛光或远程RS485、USB、Ethernet通信控制、I/O口控制,可实现765W-1200W功率的线性调整,确保清洗力度精准匹配不同工艺需求

哈科迪

纳米级微颗粒清除

1-5MHz兆声波振动+ 800W 大功率输出,可去除纳米级微颗粒,轻松清除高深径比微孔杂质,满足芯片制造中“零缺陷”清洗标准

哈科迪

适配不同行业需求

为半导体硅片、医疗器件、光学器件、显示屏等微电子行业精密清洗领域提供更具高效、实用、灵活的超洁净精密制造解决方案

哈科迪

智能自适应控制

实现晶圆化学抛光或远程RS485、USB、Ethernet通信控制、I/O口控制,可实现765W-1200W功率的线性调整,确保清洗力度精准匹配不同工艺需求

提高清洗效率,降低合规成本

从小批量研发试产到大规模量产爬坡,一套技术覆盖全生命周期

哈科迪哈科迪

恒功率稳定输出

精准控力,适配多样工艺,避免功率波动导致的清洗不均

哈科迪哈科迪

频率实时跟踪(PLL)

能量最大化输出,清洗更高效稳定,极大降低维护成本

哈科迪哈科迪

清洗质量在线监控

实时监测阻抗、功率、温度等参数,自动预警,降低风险

哈科迪哈科迪

波形调制与扫频驱动

自定义轨迹,复杂工况全覆盖,进一步保障清洗一致性和安全性

哈科迪哈科迪

清洗效率高

可根据实际选择单件清洗与批量清洗,提升效率30%

品牌竞争力

打破技术壁垒,成功开发出具有国际竞争力的兆声波清洗设备和工艺体系。

国内首家专研企业

哈科迪作为中国首家专注于半导体湿法设备兆声波模块自主研发的高科技企业,现已成功研发出兆声波纳米级清洗系列产品,助力中国半导体产业链实现关键技术自主可控。

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多场景定制化服务

作为兆声波纳米级清洗领域的创新者,哈科迪凭借全自主知识产权体系及灵活定制能力,针对半导体、光学、医疗等行业推出不同产品服务,精准匹配不同场景的清洗痛点,助力产业升级。

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强大自主研发团队

由哈尔滨工业大学教授隆志力教授领衔、自有30+人组成核心技术团队,并拥有深圳先进制造国家级重点实验室——ASM-哈工大半导体封装实验室,产学研深度融合,现已获得该领域4件发明专利,质量管理体系认证证书GB/T19001-2016/ISO9001:2015。

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售后快速及时响应

哈科迪立足深圳,依托强大的制造能力,从下单到交货缩短整个周期,性比价高,服务响应快,24小时能到达用户现场,快速为客户解决问题,让您省心更放心。

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